Page 81 - bilgem-teknoloji-dergisi-11
P. 81

Bilgi Güvenliğieknolojileri
 Y ar ı  İlet k en T                                                                              BILGEM
                                                                                                  TEKNOLOJI























                                                                 Şekil 8. SiGe HBT yapısı.



              Şekil 7. 5 YİTAL BiCMOS teknolojisi ile üretilen öğelerin TCAD
              benzetim ortamında kesiti.

              tabaka  bulunmaktadır.  Gömük  tabaka,  kollektör
              akımının kontağa ulaşırken izlediği yolda direncin
              düşmesini sağlar. Kollektör kontağı altına yapılan
              n+ iyon katkılama kollektör direncini düşüren di-
              ğer uygulamadır. SIC (Selevtive Implanted Collec-
              tor), transistörün performans hedefine göre iyon
              ekme  ile  katkılanmış  aktif  kollektör  bölgesidir.
              Aktif transistör bölgesinde SiGe baz, sandviç gibi,
              emetör ve kollektör arasında yer almaktadır.

              Şekil 9’da 4 parmaklı bir HBT’nin YİTAL serim ta-
              sarımı ve YİTAL’de üretildikten sonraki pul üzeri
 Şekil 6’da pul üzeri MIM kondansatör görüntüsü   tör kapısı (K) bulunmaktadır. Bazın kontak alınan   görüntüsü verilmiştir. Şekil 10’da ise aynı transis-
 ile kapasite ölçüm ve modelleme sonuçları veril-  bölgesine dış baz denmektedir. Emetör ve dış baz   törün  elektron  mikroskobu  (TEM:  Transmission
 miştir. Kapasite değeri 0,7 fF/µm ’dir.  bölgeleri polisilisyumdur. Bu bölgeler dirençlerinin   Electron Microscope) ile elde edilmiş kesiti görül-
 2
 düşük  olması  için  yüksek  katkılıdır.  Transistörün   mektedir. Şekil 11’de ise kontakları ile birlikte HBT
 Şekil 7’de YİTAL’in 0,25 µm 5 metal SiGe:C BiC-  kendi kapıları arası yalıtım sığ çukur yalıtımı (STI:   ve  aktif  HBT  bölgesinin  yakından  verildiği  TEM
 MOS teknojisi ile üretilen öğelerin TCAD (Techno-  Shallow  Trench  Isolation)  ve  oksit,  transistörler   görüntüleri mevcuttur.
 logy Computer Aided Design) benzetim ortamında   arası  yalıtım  ise  derin  çukur  yalıtımı  (DTI:  Deep
 elde edilmiş kesiti görülmektedir.  Trench Isolation) ile sağlanır. Yan duvarlar, eme-
 törü dış baz bölgelerinden yalıtır. Kollektörün eme-
 Şekil 8’de tipik bir npn HBT yapısının temel öğeleri   tör ve baza göre düşük katkılanması, transistörün
 gösterilmiştir. Emetör, baz, kollektör ve taban, tran-  akım yolunda seri ve yüksek bir direncin olmasına
 sistörün kontrol kapılarıdır. Şekildeki transistörün   neden olur. Kollektör katkısını artırmadan direnci
 bir emetör kapısı (E), 2 baz kapısı (B) ve iki kollek-  düşürmek için aktif kollektörün altında n+ gömük



              Şekil 10. 4 parmaklı HBT yapısının pul kesidi görüntüsü.
















 Şekil 6. MIM kondansatörün (a) pul üzeri görüntüsü ile (b) endüktans değeri.
              Şekil 11. Çekirdek HBT: (a) TEM görüntüsü, (b) aktif transistör bölgesi.


 78                                                       79
   76   77   78   79   80   81   82   83   84   85   86