Page 80 - bilgem-teknoloji-dergisi-11
P. 80

Bilgi Güvenliğieknolojileri
        Y ar ı  İlet k en T                                                                                                                                                                                              BILGEM
                                                                                                                                                                                                                         TEKNOLOJI























                                                                                                                                                                                        Şekil 8. SiGe HBT yapısı.



                                                                                                                                     Şekil 7. 5 YİTAL BiCMOS teknolojisi ile üretilen öğelerin TCAD
                                                                                                                                     benzetim ortamında kesiti.

                                                                                                                                     tabaka  bulunmaktadır.  Gömük  tabaka,  kollektör
                                                                                                                                     akımının kontağa ulaşırken izlediği yolda direncin
                                                                                                                                     düşmesini sağlar. Kollektör kontağı altına yapılan
                                                                                                                                     n+ iyon katkılama kollektör direncini düşüren di-
                                                                                                                                     ğer uygulamadır. SIC (Selevtive Implanted Collec-
                                                                                                                                     tor), transistörün performans hedefine göre iyon
                                                                                                                                     ekme  ile  katkılanmış  aktif  kollektör  bölgesidir.
                                                                                                                                     Aktif transistör bölgesinde SiGe baz, sandviç gibi,
                                                                                                                                     emetör ve kollektör arasında yer almaktadır.

                                                                                                                                     Şekil 9’da 4 parmaklı bir HBT’nin YİTAL serim ta-
                                                                                                                                     sarımı ve YİTAL’de üretildikten sonraki pul üzeri
              Şekil 6’da pul üzeri MIM kondansatör görüntüsü   tör kapısı (K) bulunmaktadır. Bazın kontak alınan                     görüntüsü verilmiştir. Şekil 10’da ise aynı transis-
              ile kapasite ölçüm ve modelleme sonuçları veril-  bölgesine dış baz denmektedir. Emetör ve dış baz                     törün  elektron  mikroskobu  (TEM:  Transmission
              miştir. Kapasite değeri 0,7 fF/µm ’dir.          bölgeleri polisilisyumdur. Bu bölgeler dirençlerinin                  Electron Microscope) ile elde edilmiş kesiti görül-
                                           2
                                                               düşük  olması  için  yüksek  katkılıdır.  Transistörün                mektedir. Şekil 11’de ise kontakları ile birlikte HBT
              Şekil 7’de YİTAL’in 0,25 µm 5 metal SiGe:C BiC-  kendi kapıları arası yalıtım sığ çukur yalıtımı (STI:                 ve  aktif  HBT  bölgesinin  yakından  verildiği  TEM
              MOS teknojisi ile üretilen öğelerin TCAD (Techno-  Shallow  Trench  Isolation)  ve  oksit,  transistörler              görüntüleri mevcuttur.
              logy Computer Aided Design) benzetim ortamında   arası  yalıtım  ise  derin  çukur  yalıtımı  (DTI:  Deep
              elde edilmiş kesiti görülmektedir.               Trench Isolation) ile sağlanır. Yan duvarlar, eme-
                                                               törü dış baz bölgelerinden yalıtır. Kollektörün eme-
              Şekil 8’de tipik bir npn HBT yapısının temel öğeleri   tör ve baza göre düşük katkılanması, transistörün
              gösterilmiştir. Emetör, baz, kollektör ve taban, tran-  akım yolunda seri ve yüksek bir direncin olmasına
              sistörün kontrol kapılarıdır. Şekildeki transistörün   neden olur. Kollektör katkısını artırmadan direnci
              bir emetör kapısı (E), 2 baz kapısı (B) ve iki kollek-  düşürmek için aktif kollektörün altında n+ gömük



                                                                                                                                     Şekil 10. 4 parmaklı HBT yapısının pul kesidi görüntüsü.
















                                  Şekil 6. MIM kondansatörün (a) pul üzeri görüntüsü ile (b) endüktans değeri.
                                                                                                                                     Şekil 11. Çekirdek HBT: (a) TEM görüntüsü, (b) aktif transistör bölgesi.


                                                          78                                                                                                                     79
   75   76   77   78   79   80   81   82   83   84   85